中国首款5nm光刻机(国产光刻机最新进展)

中国什么时候能造出5nm的光刻机？真的有那么难吗？长见识。

光刻机现在是很多普通人都知道的“高级”名词，这个复杂的机器现在已经成为美国恶意制裁中国芯片的武器。我们知道这个世界上很多东西都是聚集全球力量向别人学习而成的，比如手机，光刻机。那么中国，如果要自己进行光刻机的研究要多少年才能达到5纳米水平呢？看完算长见识了

在说这个问题之前我们还是需要先了解一下光刻机究竟有多复杂。

现在世界上最顶级的设备无疑是ASML的5nm光刻机。这台机器如果一个一个拆开，大概能装40个集装箱。超过100000万个零件的总数量绝对是机械领域的巨人。而且这十万个零件中，有很多精密仪器，顶级光源，超稳定轴承，量规。他们来自世界各个国家，包括日本、德国和美国。其中，美国实际上为光刻机提供了大量的基础零件，这也是他们如此强硬地要求芯片厂商禁止向华为出口产品的原因。

很多人认为，打破这个禁令最简单的方法就是自己动手。但这并不容易。

光刻机需要的很多零件中国制造不了。首先打通这些供应商的货源几乎是不可能的。毕竟，这些供应商不得不考虑向中国出售光刻机材料，他们可能会遭到美国的报复和攻击。如果我们能改善供应链，发展我们力所能及的技术，现在中国的光刻机技术最先进的应该是28纳米左右的水平。

28纳米到5纳米是一个巨大的鸿沟。

这种差距不是单靠研究就能达到的。事实上，在理论基础上，我国一些相关实验室已经具备了2nm技术的理论基础和研究方向，但量产需要保证稳定性、良率和效率。这样做真的很难。

为了成功研究5纳米光刻机，仅美国就投入了50多个顶尖科研团队，历时20多年。欧洲国家、日本、韩国虽然投入没那么多，但是在正确的时间做了正确的事情。而我们国家的光刻机技术已经在190纳米左右停滞了20年。20多年足以改变很多情况。

所以毫不夸张的说，毕竟现在这个领域的现在中国想要自主生产出来一台能够稳定批量制造5纳米制程芯片的光刻机，也许10年也许20年都是有可能的。's技术处于被封锁的阶段，中国的光源等核心部件也被禁运了，所以一些人靠自己和世界的时间必然会有巨大的差距。